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減少外延襯底缺陷的形成方法與流程技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):12916743

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本發(fā)明涉及半導(dǎo)體器件制造領(lǐng)域,尤其涉及一種減少外延襯底缺陷的形成方法。背景技術(shù)在傳統(tǒng)的外延襯底形成方法中,在遠(yuǎn)端和近端生長(zhǎng)的單晶硅錠被切斷從而形成塊狀,接著對(duì)塊狀進(jìn)行外圍打磨,并且形成定位邊或定位V槽,用于起到位置指示的作用;接著,對(duì)塊狀進(jìn)行切片處理,獲得外延襯底;接著,對(duì)外延襯底進(jìn)行倒角處理;接著,進(jìn)行雙面研磨(DoubleDiskSurfaceGrinding,DDSG);接著,再進(jìn)行單面研磨(SingleDiskSurfaceGrinding,SDSG);接著,進(jìn)行雙面拋光處理(Doubl...
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