技術(shù)編號：12886582
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻領(lǐng)域，尤其涉及一種雙層對準(zhǔn)裝置和雙層對準(zhǔn)方法。背景技術(shù)對準(zhǔn)系統(tǒng)是半導(dǎo)體設(shè)備中的一個(gè)核心分系統(tǒng)，其對準(zhǔn)精度往往直接決定了半導(dǎo)體光刻設(shè)備所能達(dá)到的套刻精度。機(jī)器視覺對準(zhǔn)系統(tǒng)以其結(jié)構(gòu)簡單、速度快、精度高等特點(diǎn)在半導(dǎo)體設(shè)備中得到了廣泛應(yīng)用。相對于光刻機(jī)類設(shè)備通過物鏡連接掩模板與硅片這兩個(gè)層級的坐標(biāo)關(guān)系，構(gòu)造相對簡單的類光刻機(jī)設(shè)備沒有物鏡這種精密的光學(xué)設(shè)備，必須設(shè)計(jì)新的光學(xué)結(jié)構(gòu)和控制系統(tǒng)來實(shí)現(xiàn)雙層對準(zhǔn)。專利US20090251699(A1)公布了一種雙層對準(zhǔn)方案，該方案是在雙層對準(zhǔn)對象之間設(shè)...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。