技術(shù)編號:12865035
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種X射線探測器及其制作方法,特別是涉及一種新型光導型氮化鎵基室溫X射線探測器結(jié)構(gòu),該探測器為垂直結(jié)構(gòu)。背景技術(shù)在第三代半導體中,GaN以高遷移率、禁帶寬度大、擊穿電場強、抗輻射性強等優(yōu)異的性能在在半導體激光器、紫外探測器、發(fā)光二級管還有功率開關(guān)器件等半導體器件上有著重大的應用。近年來由于在抗輻射性、高熔點、化學穩(wěn)定性方面具有優(yōu)良的性質(zhì),GaN基探測器在核探測器領域也受到關(guān)注和研究。早期的半導體核探測器如Li漂移Si、高純Ge核探測器對核輻射的抗性較差,在核輻射下性能容易變差。而且這些...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。