技術編號：12838624
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種磁懸浮導向裝置，適用于高速無摩擦靜音運動裝置，諸如半導體制造設備、液晶顯示制造設備、檢測設備中的運動臺定位裝置，運動臺上承載有硅片、掩模、玻璃基底或者類似的基底用以曝光或者檢測。背景技術隨著光刻技術的進步和半導體工業(yè)快速發(fā)展，對于光刻設備有四項基本性能指標：線寬均勻性(CD，CriticalDimensionUniformity)、焦深(Focus)、套刻(Overlay)和產(chǎn)率(Throughput)。為了提高線寬均勻性，光刻機工件臺掩模臺必須提高水平向精密定位能力。為了提高焦深...
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