技術(shù)編號:12803283
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種陣列基板及顯示面板。背景技術(shù)在陣列基板制備過程中,頂部的鈍化保護層制作完成后,需要先利用干法刻蝕技術(shù)在鈍化層上形成過孔,然后在鈍化層表面形成ITO(IndiumTinOxide,氧化銦錫)層,以使ITO層與源漏電極層電連接。結(jié)合圖1a和圖1b所示,傳統(tǒng)陣列基板制備過程中,制作鈍化層1的材質(zhì)通常會選擇SiNx,并且鈍化層1分為三層,包括鈍化過渡層11、鈍化主體層12和鈍化頂層13,鈍化過渡層11的作用是避免鈍化主體層12與ITO層3直接接觸產(chǎn)生黑點不良。鈍化...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。