技術(shù)編號(hào)：12769872
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于光學(xué)薄膜元件后處理技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種利用激光沖擊波技術(shù)提高光學(xué)薄膜元件力學(xué)性能的后處理方法。背景技術(shù)現(xiàn)代高功率激光技術(shù)的發(fā)展，特別是大口徑系統(tǒng)的發(fā)展，對(duì)光學(xué)薄膜元件性能提出了越來越苛刻的要求，要求其具有高光性精度、高力學(xué)性能、高損傷閾值和高精度面形控制，將直接影響到大口徑精密光學(xué)系統(tǒng)的功能實(shí)現(xiàn)和系統(tǒng)長時(shí)間運(yùn)行的穩(wěn)定性。影響光學(xué)薄膜各方面性能的因素有很多，包括薄膜自身特性、薄膜制備工藝以及激光參數(shù)等。光學(xué)薄膜元件由于其特殊的高、低折射率材料交替沉積在光學(xué)玻璃基底上的多層結(jié)構(gòu)，特別是在...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。