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掃描式曝光設(shè)備的制作方法與工藝技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):12769235

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本實(shí)用新型關(guān)于一種曝光裝置,特別關(guān)于一種掃描式曝光設(shè)備。背景技術(shù)微影制程在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中是基本配備,而其為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)成本中單一最大成本因子。根據(jù)信息網(wǎng)絡(luò)工業(yè)公司所發(fā)展的評(píng)估方法,曝光系統(tǒng)的占整個(gè)晶圓廠成本的20%。而微影設(shè)備主要掌握在Nikon、ASML和SVGL等光學(xué)設(shè)備廠。微影設(shè)備當(dāng)中的曝光設(shè)備,目前是采用一次性曝光的方式,借由復(fù)雜的光學(xué)機(jī)構(gòu)讓對(duì)位好的光罩與基板進(jìn)行曝光。這種一次性曝光的方式,由于需要達(dá)到光線的準(zhǔn)直性需求、一次性(可控制時(shí)間長(zhǎng)短)以及光罩與基板的緊密貼合,所以,在對(duì)位機(jī)構(gòu)上以及...
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