技術編號：12737142
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明大體上是關于半導體制造且是關于檢測用于半導體制造中的晶片，且更特定言之，是關于具有可選擇像素密度的全晶片檢測方法。本文中所提及的任何公開案或專利文獻的全部公開內容以引入的方式并入，包括美國專利第3,829,219號及第5,526,116號以及第6,031,611號，以及M.P.Rimmer等人的公開的「Evaluationoflargeaberrationsusinglateral-shearinterferometerhavingavariableshear」(App.Opt.，第14卷...
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