技術(shù)編號：12737062
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及用于加工半導(dǎo)體器件的半導(dǎo)體處理裝置及系統(tǒng)，如等離子體刻蝕裝置、等離子體沉積裝置等，尤其涉及該裝置、系統(tǒng)中的頂蓋開啟裝置與方法。背景技術(shù)在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，對于給定的真空處理裝置，業(yè)內(nèi)人員總是希望它的工藝結(jié)果是符合預(yù)期的。以等離子體刻蝕裝置為例，對它賦以相同的刻蝕參數(shù)用來加工不同批次的相同基片時，人們期望各個批次的基片被刻蝕的深度、均勻度等都是大致相同的，至少是差異不大的。通常而言，在設(shè)備維修或重新調(diào)制后的初期，大體能滿足上述要求。然而，長期持續(xù)運行很長一段時間，通常兩三個月后，同一設(shè)備以...
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