技術編號：12722668
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及圖像處理與生物特征識別技術領域，尤其涉及一種足跡壓力分布特征表示方法。背景技術目前足跡的特征表示主要分為三類：幾何形態(tài)特征、壓力形態(tài)特征和紋理特征。幾何形態(tài)特征是建立統(tǒng)一的足跡圖像坐標系，進行幾何度量，對足長、掌寬、跟寬以及從足跟到每個腳趾的邊緣，足跟中心到每個腳趾的中心進行測量。足跡壓力形態(tài)特征主要包括足底與地面之間的相互作用力信息和足底壓力分布信息。主要方法有：1)利用足底壓力分布信息構建足底平均、最大、最小壓力時間曲線，直接利用曲線的數(shù)據(jù)點來構建特征向量；2)提取足跡壓力中心與區(qū)...
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