技術(shù)編號：12709894
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種針對大功率、超高熱流密度的噴霧冷卻高效散熱裝置。背景技術(shù)高熱流密度散熱技術(shù)主要針對大功率微電子機(jī)械和芯片、航空航天熱控、大功率固體激光冷卻、高能粒子加速器靶系統(tǒng)等散熱熱流密度高和空間要求苛刻、傳統(tǒng)冷卻方式已不能滿足要求的領(lǐng)域。噴霧冷卻是一種針對高熱流密度的有效散熱方式，由于其具有散熱能力強(qiáng)、工質(zhì)需求量小、過熱度低和接觸熱阻小等優(yōu)點(diǎn)，在電子器件、激光陣列、離子束陣列等高熱流密度的強(qiáng)制散熱領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。在當(dāng)前噴霧冷卻技術(shù)的研究中，較多集中在發(fā)熱面較小的情形，其中噴霧覆蓋范圍較...
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