技術(shù)編號(hào):12674882
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型是有關(guān)于一種加熱系統(tǒng),尤指一種大面積激光加熱系統(tǒng)。背景技術(shù)在半導(dǎo)體工藝中,薄膜沉積工藝一般被用于制備氧化物產(chǎn)品,因此,在進(jìn)行薄膜沈積工藝或是在薄膜沈積工藝完成后,反應(yīng)腔室內(nèi)必須被充滿氧氣氣氛(OxygenAtmosphere)。再者,多數(shù)沈積工藝還需要將欲進(jìn)行薄膜沈積的樣品加熱至高溫,方能形成所欲的氧化物。然而,在現(xiàn)有技術(shù)中,于富含氧氣的反應(yīng)環(huán)境下進(jìn)行高溫加熱仍具有挑戰(zhàn)性。由于大多數(shù)用于加熱的燈絲材料在氧氣氣氛下進(jìn)行升溫會(huì)快速地發(fā)生氧化反應(yīng),現(xiàn)有在氧氣氣氛下使用的加熱器一般為紅外線加熱...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。