技術編號：12633348
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及晶圓的存放裝置，具體是涉及一種單元式獨控箱體結構。背景技術隨著半導體產(chǎn)業(yè)制造線徑越來越微小化，污染防治從粉塵微粒慢慢重視到氣狀分子污染物上，在集成電路的制作過程中，晶圓表面的潔凈度及硅片表面穩(wěn)定狀態(tài)對高質(zhì)量的硅器件工藝是至關重要的。如果晶圓表面質(zhì)量達不到要求，無論其它工藝步驟控制得多么優(yōu)秀，也不可能獲得高質(zhì)量的半導體器件?，F(xiàn)有半導體制造公司晶圓通常儲存于氮氣柜或無氧氮氣柜，其最低氧含量僅可到達1％左右，導致晶圓在存儲過程中依然有氧化的風險；且現(xiàn)有氮氣柜需一直補充氮氣，運營成本高。此外，...
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