技術(shù)編號：12598892
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種控制離子圓形注入的二維掃描裝置，涉及離子注入機，屬于半導(dǎo)體裝備制造領(lǐng)域。背景技術(shù)離子注入技術(shù)是近30年來在國際上蓬勃發(fā)展和廣泛應(yīng)用的一種材料表面改性高新技術(shù)，已經(jīng)在半導(dǎo)體材料摻雜，金屬、陶瓷、高分子聚合物等的表面改性上獲得了極為廣泛的應(yīng)用，取得了巨大的經(jīng)濟效益和社會效益。在電子工業(yè)中，離子注入成為了微電子工藝中的一種重要的摻雜技術(shù)，在當代制造大規(guī)模集成電路中，可以說是一種必不可少的手段。離子注入目前都采用二維掃描控制裝置控制掃描輸出，掃描方式有電掃描：晶片固定，水平與垂直方向都采用...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。