技術編號：12598866
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及半導體制造領域，具體地，涉及一種下電極組件及半導體加工設備。背景技術在目前的等離子體刻蝕設備的反應腔室內，下電極組件作為射頻電極和承載晶片的載體，是一個極為重要的組件。在進行工藝的過程中，由于晶片的溫度會逐漸升高，當溫度超過一定閾值時，勢必會影響工藝結果，為此，通過使用氣體輸送管路朝向下電極組件中的下電極板輸送冷卻氣體，可以冷卻該下電極板，從而可以間接對置于該下電極板上的晶片進行控溫。由于在進行工藝的過程中，通常需要向下電極板加載射頻偏壓，而氣體輸送管路接地，這使得下電極板與氣體輸送管...
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