技術(shù)編號:12592132
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及精密測量領(lǐng)域,特別是光學(xué)器件相位延遲量的測量裝置及其測量方法。背景技術(shù)半波片、四分之一波片等光學(xué)器件作為精密儀器的重要組成部分,在精密測量、激光技術(shù)等領(lǐng)域有重要的應(yīng)用。其相位延遲量與標(biāo)稱值是否一致對儀器性能影響較大,因此精確測量半波片、四分之一波片的相位延遲量具有重要的意義。相位延遲器件通常采用具有雙折射效應(yīng)的材料制作而成,其相位延遲量與2π(ne-no)d/λ成正比,其中ne、no為晶體材料中非常光與尋常光的折射率,d為波片厚度,λ為所使用的光波長。過往的許多專家、學(xué)者提出了不同的測...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。