技術(shù)編號：12578776
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明是有關(guān)于一種鍍膜系統(tǒng)，尤其指一種應(yīng)用于半導(dǎo)體工藝的鍍膜系統(tǒng)。背景技術(shù)薄膜沉積為半導(dǎo)體工藝中非常常見的工藝，其包括物理氣相沉積(PVD)工藝與化學(xué)氣相沉積(CVD)工藝，其中反應(yīng)性等離子體沉積(reactiveplasmadeposition，RPD)工藝屬于一種陽極電弧熱蒸氣型的PVD工藝，由于在工藝中會產(chǎn)生高溫蒸氣，因此半導(dǎo)體基板必須與靶材具有相當?shù)木嚯x，使得部分成膜材料無法有效沉積于半導(dǎo)體基板表面，造成材料的浪費。再者，在在線(in-line)鍍膜工藝中，蒸氣中的成膜粒子較容易集中沉積...
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