技術(shù)編號：1252223
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明提供一種粒子射線掃描照射方法，包括如下步驟根據(jù)由粒子射線治療計劃決定的相對粒子射線照射量及處方粒子射線劑量，求出粒子射線的各照射點的計劃照射粒子數(shù)的步驟；根據(jù)計劃照射粒子數(shù)及粒子射線的射束電流波形來模擬各照射點的粒子射線的照射過程，求出在粒子射線掃描移動期間照射到患部的粒子數(shù)的步驟；使用在掃描移動期間照射的粒子數(shù)，校正各照射點的計劃照射粒子數(shù)的步驟；將校正后的計劃照射粒子數(shù)換算成劑量監(jiān)控器的計數(shù)值的步驟；以及根據(jù)換算得到的計數(shù)值來照射粒子射線的步驟。...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。