技術(shù)編號(hào)：12511440
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本公開涉及測(cè)量光學(xué)輻射的特性。背景各種制造過(guò)程及其他過(guò)程涉及測(cè)量并采集光學(xué)輻射源的光學(xué)輻射數(shù)據(jù)，具體為頻譜發(fā)射特性。所述制造過(guò)程或其他過(guò)程可以是如下的過(guò)程：光學(xué)輻射用作執(zhí)行所述過(guò)程的一部分或者光學(xué)輻射由所述過(guò)程生成。在一些情況(諸如成像應(yīng)用)中，可能希望測(cè)量并確定環(huán)境光的頻譜發(fā)射特性。雖然各種技術(shù)是可用的，但是一些已知的技術(shù)僅對(duì)所述過(guò)程的區(qū)域提供全局或平均測(cè)量。例如，可提供光電二極管的陣列來(lái)測(cè)量各種波長(zhǎng)的入射光。然而，光電二極管的響應(yīng)大體取決于入射輻射的強(qiáng)度以及輻射的波長(zhǎng)。因此，可能無(wú)法將特定光...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。