技術(shù)編號：12498215
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型屬于真空蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種蒸發(fā)源。背景技術(shù)在真空蒸鍍過程中，需要通過蒸發(fā)源將蒸鍍材料蒸發(fā)(或升華)為蒸氣，蒸氣在待蒸鍍物體表面凝結(jié)后形成膜層。因此，蒸發(fā)源產(chǎn)生的蒸氣是否均勻，對所形成的膜層的質(zhì)量是十分重要的。蒸發(fā)源通常為“線源”形式，其包括長條形的腔室，腔室頂部均勻開設(shè)有多個(gè)出氣孔，底部則連接坩堝，坩堝用于盛放蒸鍍材料并將其蒸發(fā)，產(chǎn)生的蒸氣進(jìn)入腔室后并從出氣孔排出。一種現(xiàn)有的蒸發(fā)源如圖1所示，其腔室1底部多個(gè)不同位置分別連接坩堝2。這種蒸發(fā)源的腔室1不同位置的氣壓不同，正對坩堝...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。