技術編號：12483010
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及高功率電子器件冷卻技術領域，特別涉及一種冷卻超高熱流密度熱源的系統(tǒng)和方法。背景技術隨著大功率微電子芯片及固體激光技術在航空航天等領域的應用，相應的高熱流密度的散熱問題顯得越來越重要，而軍事電子設備如相控陣雷達、微波功率器件、固體激光器等大功率發(fā)熱源的熱流密度則更高。特別是高功率二極管激光器的研制成功促進了高功率固體激光器在航空航天軍事領域的應用，隨之帶來的問題是，在高功率下，固體激光器在工作中產生的大量無用熱會降低激光光束的質量和輸出功率，由此造成設備發(fā)熱功率不斷升高，熱流密度可達數百...
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