技術編號：12480582
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。圖案化和制作用于三維基底的掩模的方法優(yōu)先權的聲明本專利申請要求2014年4月25日提交的美國專利申請61/984,693的優(yōu)先權，該專利申請的全部內容據此以引用方式并入本文。技術領域本發(fā)明整體涉及利用掩模對三維基底進行圖案化的新方法以及利用其上沉積的圖案化材料形成的產品。本發(fā)明還涉及制作用于對三維基底進行圖案化的掩模的新方法。背景技術過去十年來，消費者需求刺激了技術的發(fā)展，使電子設備進一步微型化。具體地，消費者減小其電子設備的尺寸和可視性的趨勢可能與其積極的生活方式相關。即，許多消費者希望隨時攜...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。