技術編號：12465528
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明屬于光學領域，涉及一種高能激光系統(tǒng)大動態(tài)遠場焦斑測量裝置，具體涉及一種基于數(shù)字微鏡的大動態(tài)激光遠場焦斑測量系統(tǒng)及測量方法。背景技術隨著激光技術的成熟，目前光學領域涌現(xiàn)出了越來越多的大型、復雜、高能激光系統(tǒng)。高能激光系統(tǒng)的遠場焦斑形態(tài)是評估激光系統(tǒng)光束質量的重要參數(shù)，尤其是用于激光打靶過程時，要求焦斑能量集中度越高越好，即盡量減少“旁瓣”的能量，因而要求激光遠場焦斑具有一定的動態(tài)范圍，如用于慣性約束聚變的激光焦斑的動態(tài)范圍在1000:1以上?！爸靼辍焙汀芭园辍笔怯蒊CF打靶過程中對激光的過孔...
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