技術(shù)編號(hào)：12459094
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及自動(dòng)化領(lǐng)域，尤其涉及一種掩膜板自動(dòng)清洗系統(tǒng)及方法。背景技術(shù)在現(xiàn)有的彩膜基板制程工藝中，通常通過(guò)曝光機(jī)實(shí)現(xiàn)彩膜的圖案化，而使用最多的是接近式曝光機(jī)。此種曝光機(jī)的掩膜板與被曝光基板之間的距離在100-400μm之間，如此微小的距離造成掩膜板極易被曝光基板上的附著異物污染，或者由于長(zhǎng)時(shí)間曝光被光阻膠曝光時(shí)的揮發(fā)物污染，而一旦掩膜板被污染，將造成共通缺陷，嚴(yán)重影響產(chǎn)品質(zhì)量，甚至造成產(chǎn)品NG。針對(duì)上述問(wèn)題，現(xiàn)今業(yè)內(nèi)普遍采取的措施是在掩膜板被使用前使用掩膜板清洗機(jī)提前清洗，以及當(dāng)掩膜板每被使用曝光...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。