技術(shù)編號(hào)：12393931
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種掃描離子鍍磁控陰極，具體的說是掃描磁場(chǎng)的離子鍍陰極。背景技術(shù)傳統(tǒng)的離子鍍陰極，靶材安裝在背板的靶座上，靶材設(shè)置在背板的平面上，背板和靶座形成用于冷去的冷卻水通道，永磁鐵篤定設(shè)置在靶材四周邊緣的下方、靶材的內(nèi)部，永磁鐵固定設(shè)置在靶材軸心的下方。靶材的內(nèi)部，磁力線分布固定。按照這種設(shè)計(jì)方式，靶材只有一個(gè)固定的刻蝕區(qū)域，隨著刻蝕深度的增加，會(huì)造成靶面磁場(chǎng)變化，工藝的穩(wěn)定性差。功率密度變化快，且由于刻蝕只發(fā)生在一個(gè)相對(duì)較小且固定的區(qū)域，靶材的消耗集中，且消耗的越來越快，造成靶材過早報(bào)廢...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。