技術(shù)編號：12370623
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。面向下的打印設(shè)備和方法相關(guān)申請的交叉引用本申請要求于2011年8月9日提交美國臨時專利申請No.61/521,631和于2012年3月20日提交的美國臨時專利申請No.61/613,348的權(quán)益，這兩個美國申請的全部內(nèi)容通過引用合并于本文。技術(shù)領(lǐng)域本教導(dǎo)涉及熱敏打印和噴墨打印系統(tǒng)、設(shè)備及制造諸如有機發(fā)光裝置的各種產(chǎn)品的方法。背景技術(shù)對于被設(shè)計為用于在不與待沉積墨的表面接觸的情況下沉積墨的打印頭來說，在打印頭和襯底的打印表面之間保持嚴(yán)格受控的間隔是有益的。如果打印頭距襯底表面太遠(yuǎn)，則打印內(nèi)容會過于...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。