技術(shù)編號：12360639
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種光刻機減振框架。背景技術(shù)曝光裝置主要是工件臺攜帶硅片或玻璃基板等在物鏡下隨掩模臺保持同步運動，并完成精確的曝光工作的儀器，是集機、電、光、氣等多項技術(shù)于一體的復雜系統(tǒng)，其高可靠性、高精度、高速度及高穩(wěn)定性的嚴格要求對設(shè)計工程師而言無疑有著極大的挑戰(zhàn)。因此，曝光裝置的動力學特性成為設(shè)計工程師最為關(guān)心的內(nèi)容之一。整機框架的動態(tài)性能直接影響曝光裝置整機焦點(Focus)、套刻(Overlay)和Fading三大指標。整機框架的動態(tài)性能的評價指標主要為框架穩(wěn)定時間、殘余加速度、位置穩(wěn)定性等...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。