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一種在晶圓光刻工藝中與接觸式光刻機(jī)配合使用的光刻板及其應(yīng)用方法與流程技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):12360610

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本發(fā)明涉及一種在晶圓光刻工藝中與接觸式光刻機(jī)配合使用的光刻板及其應(yīng)用方法。背景技術(shù)接觸式光刻機(jī)(參見(jiàn)圖1)的主要特點(diǎn)是:a、光線從汞燈發(fā)出后,經(jīng)過(guò)透鏡轉(zhuǎn)化為平行線后,直接照射在光刻板上。b、光刻板與晶圓表面貼合,間隙距離不大于10um。多次作業(yè)會(huì)影響光刻板的圖形。c、光刻機(jī)曝光一次,即可完成一片晶圓的曝光。d、晶圓上的光刻圖形和光刻板上圖形一致。砷化鎵激光芯片的設(shè)計(jì),要求芯片的諧振腔面沿著晶圓<110>解理邊方向解理形成,故砷化鎵晶圓在進(jìn)行第一步光刻時(shí),需要將光刻圖形和表征其<...
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