技術編號：12338775
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種提純的方法，特別是一種吸附提純?nèi)姆椒?。背景技術三氟化氮NF3是近年來發(fā)展迅速的一種微電子工業(yè)原料，是信息產(chǎn)業(yè)中優(yōu)良的等離子蝕刻和清洗氣體。NF3氣體用于干法刻蝕時，可提高晶片制造中的自動化水平，減輕勞動強度，增大安全系數(shù)，具有高蝕刻速率、高選擇性和污染物殘留小的優(yōu)點。對硅等半導體材料，尤其是線寬小于1.5μm的集成電路工藝，NF3比其它氣體具有更加優(yōu)秀的蝕刻速度和效率。其作為一種氣體清洗劑時，清洗速度快、效率高等特點，因此市場應用前景廣闊。CN101189185公開了NF3...
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