技術(shù)編號(hào)：12328516
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體加工和制造領(lǐng)域，更具體地說，涉及半導(dǎo)體清洗設(shè)備領(lǐng)域。背景技術(shù)工業(yè)生產(chǎn)經(jīng)常會(huì)對(duì)某些產(chǎn)品或設(shè)備進(jìn)行清洗，為了防止清洗液的飛濺，設(shè)置相應(yīng)的防濺射護(hù)罩十分必要，可以阻擋清洗液落在某些敏感區(qū)域，造成污染。半導(dǎo)體行業(yè)中也有專門的清洗工藝，穿插在其他一些加工工藝之間。以晶圓的研磨工藝為例，研磨工藝結(jié)束后，會(huì)對(duì)晶圓進(jìn)行清洗，清洗工藝包括兆聲波清洗、毛刷清洗、去離子水清洗以及干燥等工藝步驟。通常地，在最后的去離子水清洗以及干燥工藝步驟中，會(huì)采用如圖1-圖2中所示的清洗設(shè)備對(duì)晶圓進(jìn)行清洗和干燥。其中...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。