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電容金屬多孔體形成裝置和使用所述裝置的電容金屬多孔體形成方法與流程技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:12285565

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本說明書涉及靜電金屬多孔體形成裝置和使用所述裝置的靜電金屬多孔體形成方法。背景技術(shù)具有開放單元結(jié)構(gòu)的多孔體襯底可以涂敷有包含附加合金組分的金屬粉末。相應地,可以改進其機械特性,而諸如分離或過濾之類的效應可能下降。因此,從精細孔和網(wǎng)的內(nèi)部表面獲得的表面粗糙度可能不足以用于諸如分離或過濾之類的期望效應。為了解決該問題,可以執(zhí)行適宜的表面涂敷方法。例如,可以執(zhí)行化學氣相沉積(CVD)或物理氣相沉積(PVD)。然而,在使用CVD的情況下,金屬粉末被非均勻地涂敷,使得不易于在一般開孔體積中執(zhí)行形成過程。公...
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