技術(shù)編號：12274859
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體制造工藝，特別涉及一種槽式濕法清洗設(shè)備的控制方法。背景技術(shù)在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域中，濕法刻蝕工藝通常采用槽式濕法清洗設(shè)備處理。如圖1所示，傳統(tǒng)的槽式濕法清洗設(shè)備，一個處理槽裝一種化學(xué)藥液，整個清洗設(shè)備由多個處理槽組成。在刻蝕工藝過程中硅片整體浸泡在充滿化學(xué)藥液的處理槽內(nèi)，化學(xué)藥液定期更換，以保證處理槽的清潔，從而保證產(chǎn)品的質(zhì)量。某些化學(xué)藥液需要頻繁更換，而在其中任意一個處理槽更換化學(xué)藥液過程中，硅片無法進(jìn)行工藝處理。目前的槽式濕法清洗設(shè)備在對產(chǎn)品進(jìn)行作業(yè)排序的時候往往采用產(chǎn)品先進(jìn)機(jī)...
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