技術(shù)編號:12270303
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。一種電子式HF升降溫系統(tǒng)[技術(shù)領(lǐng)域]本發(fā)明涉及半導體制造技術(shù)領(lǐng)域,具體地說是一種電子式HF升降溫系統(tǒng)。[背景技術(shù)]半導體制造過程中,RCA清洗/蝕刻工序中必須使用恒溫恒濃度的化學品(如HF,AL-E等),用來控制清洗/蝕刻的效果保持穩(wěn)定一致。隨著半導體制造工藝的進步,對允許的溫度范圍要求越來越嚴格,基本上從原來的23±3℃提升到23±1℃。目前大多數(shù)的清洗用高純度化學品都在化學槽中使用石英管/不銹鋼加熱器加熱、使用壓縮冰機/工廠冷卻水進行冷卻。通常來說,加熱過程和冷卻過程不能使用共通的管路和熱交...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。