技術(shù)編號(hào)：12269680
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及接觸式局域SP光刻直寫(xiě)的領(lǐng)域，具體提出一種抑制偏轉(zhuǎn)角度的自適應(yīng)彈性鉸鏈的設(shè)計(jì)方法。背景技術(shù)隨著半導(dǎo)體工業(yè)的迅速發(fā)展，對(duì)半導(dǎo)體特征尺寸提出越來(lái)越高的要求。光刻技術(shù)作為制造半導(dǎo)體器件的關(guān)鍵技術(shù)之一，光刻分辨率制約著半導(dǎo)體器件的特征尺寸及其性能，而傳統(tǒng)光刻技術(shù)的分辨率受到光學(xué)衍射條件的限制。為了突破光學(xué)衍射極限，人們找到了一種新的光刻技術(shù)，即局域表面等離子體共振(LSPR)接觸光刻。傳統(tǒng)的光刻方法都是基于掩模板進(jìn)行光刻的，掩模板的制作工藝復(fù)雜、費(fèi)時(shí)、成本高昂，且其另一個(gè)明顯的缺點(diǎn)就是光刻圖形...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。