技術(shù)編號(hào)：12269454
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光學(xué)設(shè)計(jì)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及光通訊領(lǐng)域的一種新型偏振相關(guān)反射光去耦合系統(tǒng)。背景技術(shù)在光學(xué)產(chǎn)品設(shè)計(jì)中經(jīng)常會(huì)遇到反射光干擾入射光學(xué)系統(tǒng)，導(dǎo)致整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)性能下降或無(wú)法工作，因此在很多的光學(xué)產(chǎn)品設(shè)計(jì)中需要采取措施來(lái)降低或克服反射光耦合到入射光學(xué)系統(tǒng)中，以達(dá)到穩(wěn)定的性能及功能。常用的降低反射光影響的方法有如下幾種，(1)在反射界面鍍?cè)鐾改?AR)，以減少反射光的總量。此方法用高低折射率間隔的介質(zhì)材料層疊，以達(dá)到減少反射的目的，此方法成本低，但是有兩個(gè)缺點(diǎn)，一是：反射光偏振態(tài)和入射光相同，反射光仍...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。