技術(shù)編號：12268926
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。磁共振裝置中成像磁場測量和校正的系統(tǒng)本申請是于2013年05月21日提交中國專利局、申請?zhí)枮?01310191003.3、發(fā)明名稱為“磁共振裝置中成像磁場測量和校正的方法及系統(tǒng)”的中國專利申請的分案。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及磁共振技術(shù)，尤其涉及一種磁共振裝置中成像磁場測量和校正的系統(tǒng)。背景技術(shù)磁共振裝置(MagneticResonanceImaging，MRI)通常由超導(dǎo)線圈、梯度線圈、射頻線圈、計(jì)算機(jī)系統(tǒng)及其他輔助設(shè)備等五部分構(gòu)成。其中，超導(dǎo)線圈為主成像磁場的產(chǎn)生器件，梯度線圈可以提供梯度場，所述梯...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲(chǔ)備，不適合論文引用。