技術(shù)編號(hào)：12193935
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型屬于低溫冷等離子體技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種工作氣體和外部環(huán)境氣體可控的等離子體射流發(fā)生與參數(shù)診斷系統(tǒng)，用于不同工作氣體和環(huán)境氣體下的等離子體射流的發(fā)生和參數(shù)診斷。背景技術(shù)等離子體特別是低溫等離子體具有廣泛的應(yīng)用，如環(huán)境保護(hù)、生物醫(yī)學(xué)、微電子、材料改性等領(lǐng)域，已經(jīng)成為目前研究的熱點(diǎn)之一。傳統(tǒng)的低溫等離子體大多是在低氣壓下產(chǎn)生的，需要獲得和維持真空條件，不僅增大了其生產(chǎn)成本，也極大地限制了等離子體的應(yīng)用。大氣壓等離子體射流裝置的出現(xiàn)極大改善了這一現(xiàn)狀。大氣壓低溫等離子體射流裝置能夠在開放空間中產(chǎn)...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。
該類技術(shù)注重原理思路，無(wú)完整電路圖，適合研究學(xué)習(xí)。