技術(shù)編號：12185065
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及濺鍍裝置領(lǐng)域。更具體地，本發(fā)明涉及在用于涂覆大面積表面的濺鍍系統(tǒng)中使用的濺鍍裝置，所述大面積表面包含大面積基底或在一起形成大面積表面的較小基底的陣列。背景技術(shù)當(dāng)濺鍍2維表面時(shí)，例如用于制造顯示器(例如TFT顯示器)或電子裝置時(shí)，通常沉積多個(gè)鍍層，多個(gè)鍍層中的至少一些鍍層包括不同的材料。為此，在現(xiàn)有技術(shù)的解決方案中，基底從一個(gè)濺鍍室(第一材料的一個(gè)或多個(gè)鍍層在該濺鍍室中被沉積到基底上)物理地移動(dòng)到另一濺鍍室(一種不同材料的一個(gè)或多個(gè)鍍層在該另一濺鍍室中被濺鍍到同一基底上)。在一個(gè)濺鍍室內(nèi)...
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