技術(shù)編號：12180096
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及等離子體處理技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種等離子體處理裝置。背景技術(shù)在現(xiàn)有的等離子體處理裝置中，常用的電極連接方式有2種：一種是上電極接地，下電極與射頻電源相連接，在這種電極連接方式中，由于上下電極始終保持電壓差，等離子體處理裝置中的等離子體在該電壓差作用下對下電極上的待處理物的轟擊作用較大，可用于移除待處理物表面原子或原子團(tuán)，因此這種電極連接方式常見于等離子體刻蝕設(shè)備、等離子體物理清洗設(shè)備和等離子體濺射設(shè)備等中；另一種是下電極接地，上電極與射頻電源相連接，在這種電極連接方式中，由于下電極接地...
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