技術(shù)編號(hào)：12173900
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。：本發(fā)明涉及一種消除大氣吸收干擾紅外光致發(fā)光(Photoluminescence,PL)測試的光路系統(tǒng)和實(shí)驗(yàn)方法。其在步進(jìn)掃描傅立葉變換紅外(Fouriertransforminfrared,FTIR)光譜儀的紅外調(diào)制PL技術(shù)的基礎(chǔ)上，結(jié)合共光路耦合和雙通道信號(hào)調(diào)制/解調(diào)提取分離技術(shù)，將傳統(tǒng)的單通道PL方法發(fā)展為雙通道測試技術(shù)，藉此實(shí)現(xiàn)紅外PL光譜大氣吸收干擾的可靠消除。背景技術(shù)：PL光譜作為材料無損檢測的經(jīng)典有效手段，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體和碳納米管等材料的光學(xué)性質(zhì)研究，其不但能揭示材料帶隙、帶邊...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。