技術(shù)編號：12116719
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種顯微光干涉測量的方法及其裝置，特別涉及一種采用多波長可調(diào)諧顯微干涉的測量裝置與方法,屬于先進制造與檢測技術(shù)領(lǐng)域。背景技術(shù)在光電系統(tǒng)的設(shè)計與研制過程中，常常需要用到多種不同類型和材質(zhì)的光學(xué)元件來改善系統(tǒng)性能。其中一些元件(如光柵)的表面存在著由機械加工、等離子體刻蝕、噴鍍涂層等工藝過程形成的復(fù)雜微結(jié)構(gòu)；其形貌分布不僅體現(xiàn)元件的外在特征，同時也與諸如硬度、殘余應(yīng)力、使用壽命、微觀物理性能等內(nèi)在特性密切相關(guān)。為了有效地加工上述器件，使之更好地滿足光電系統(tǒng)的設(shè)計與應(yīng)用要求，需要對其表面形貌...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。