技術(shù)編號：12115178
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于輻射成像技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種基于ZnO材料的超快脈沖輻射成像系統(tǒng)。背景技術(shù)輻射成像作為診斷輻射場的一種傳統(tǒng)的手段，已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于醫(yī)療診斷、工業(yè)技術(shù)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域。近年來，隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，X射線閃光照相、ICF等一系列大型科學(xué)裝置被研究出來以滿足人們向更廣更深層次探索的需求。這類裝置產(chǎn)生的輻射場通常為脈沖輻射場，其顯著特點(diǎn)是輻射強(qiáng)度高，持續(xù)時(shí)間短。對于這類裝置產(chǎn)生的脈沖輻射場的診斷，對于探究這類裝置內(nèi)部所進(jìn)行的劇烈物理過程有著重大意義。而由于脈沖輻射場的特殊性，常規(guī)對于穩(wěn)態(tài)-...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。