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硅鋁濺射靶材的制備方法與流程技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):12110036

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本發(fā)明涉及濺射鍍膜材料領(lǐng)域,尤其涉及一種硅鋁靶材的制備方法。背景技術(shù)近年來(lái),物理氣相沉積濺射鍍膜工藝日益發(fā)展,靶材質(zhì)量的好壞直接影響到膜的質(zhì)量,由于硅鋁合金材料具備良好的超硬、耐磨、抗蝕、封閉性好的特征,硅鋁靶材是節(jié)能玻璃、裝飾面板濺射鍍膜工藝中不可缺少的膜層材料,得到廣泛的應(yīng)用。由于生產(chǎn)技術(shù)的局限性,目前我國(guó)使用的硅鋁靶材,整體具有相對(duì)密度不夠高(≤95%)、孔隙多、氧含量高、使用中容易脆裂的缺陷。在濺射過(guò)程中,由于靶材密度不夠高、材質(zhì)相對(duì)疏松,繞靶材高速運(yùn)動(dòng)的帶電離子轟擊靶材表面時(shí),會(huì)擊發(fā)出...
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