技術(shù)編號：12101580
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及一種半導體處理裝置，尤其涉及一種噴淋頭及包含所述噴淋頭的等離子體處理裝置。背景技術(shù)在現(xiàn)有等離子體處理裝置中，大多是通過在反應腔室中形成的等離子體對襯底進行等離子體處理。裝置中通常將噴淋頭作為上極板、載物臺作為下電極來使用。進行等離子體處理時，噴淋頭先以噴淋狀將氣體輸送至載物臺上的襯底，真空泵再將從載物臺周圍的氣體均勻的排出，然后控壓裝置進行穩(wěn)壓處理，最后在噴淋頭上極板和載物臺下電極之間施加電壓，以形成等離子體對襯底進行等離子處理。在上述工藝過程中，因所使用的噴淋頭的通氣孔的結(jié)構(gòu)各處...
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