技術(shù)編號(hào)：12040993
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種高精度氣體溫度控制系統(tǒng)及方法。背景技術(shù)光學(xué)投影光刻機(jī)需不斷提高分辨率以滿足集成電路芯片特征線寬逐漸縮小的需求,這種需求和更高的成像質(zhì)量控制使光刻機(jī)內(nèi)部以及關(guān)鍵部件的溫度、壓力、濕度等微環(huán)境參數(shù)的波動(dòng)成為影響成像質(zhì)量的重要因素。光刻機(jī)內(nèi)部投影物鏡的溫度波動(dòng)將直接引起焦面位置漂移和成像畸變,使得高穩(wěn)定的恒溫控制成為必需。如圖1和圖2所示，公開號(hào)為“CN200996951Y”、實(shí)用新型名稱為“一種水環(huán)境制冷系統(tǒng)”的中國專利申請(qǐng)中，記載有制冷裝置、循環(huán)風(fēng)裝置、檢測(cè)箱、水箱四部分組成，檢測(cè)箱...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。