技術(shù)編號：12037399
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明的實(shí)施方式涉及針對射頻(RF)產(chǎn)生器的多個狀態(tài)以逐步(step-wise)方式調(diào)諧阻抗匹配網(wǎng)絡(luò)的系統(tǒng)和方法。背景技術(shù)等離子體系統(tǒng)用于控制等離子體處理。等離子體系統(tǒng)包含多個射頻(RF)源、阻抗匹配和等離子體反應(yīng)器。工件放置在等離子體室內(nèi)，并在等離子體室中產(chǎn)生等離子體以處理工件。重要的是，工件以相似或均勻的方式進(jìn)行處理。為了以類似或均勻的方式處理工件，重要的是調(diào)節(jié)RF源和阻抗匹配。正是在這樣的背景下，產(chǎn)生在本公開中所描述的實(shí)施方式。發(fā)明內(nèi)容本公開的實(shí)施方式提供了針對射頻(RF)產(chǎn)生器的多個狀態(tài)...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。
該類技術(shù)注重原理思路，無完整電路圖，適合研究學(xué)習(xí)。