技術(shù)編號：12036356
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明的實施方式涉及在狀態(tài)轉(zhuǎn)變期間通過使用射頻值減小反射功率的系統(tǒng)和方法。背景技術(shù)等離子體系統(tǒng)用于控制等離子體處理。等離子體系統(tǒng)包含多個射頻(RF)源、阻抗匹配和等離子體反應(yīng)器。工件放置在等離子體室內(nèi)，并在等離子體室中產(chǎn)生等離子體以處理工件。重要的是，工件以相似或均勻的方式進行處理。為了以類似或均勻的方式處理工件，重要的是調(diào)節(jié)RF源和阻抗匹配。正是在這樣的背景下，產(chǎn)生在本公開中所描述的實施方式。發(fā)明內(nèi)容本公開的實施方式提供了在狀態(tài)轉(zhuǎn)變期間通過使用射頻值減小反射功率的裝置、方法和計算機程序。應(yīng)當(dāng)理...
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