技術編號：11995782
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明屬于光學測量技術領域，具體涉及的是一種透鏡中心厚度干涉測量方法。背景技術在光學領域中，透鏡中心厚度的測量具有重要意義。透鏡中心厚度是光學元件的一個重要參數(shù)之一，其加工質(zhì)量的好壞會對光學系統(tǒng)的成像質(zhì)量產(chǎn)生較大影響。目前透鏡中心厚度測量技術可分為接觸式測量和非接觸式測量。接觸式測量，通常使用千分表、千分尺、高度計等量具測量，測量時檢驗員需要來回移動被測透鏡，以尋找透鏡中心點的位置，因此測量速度慢，再加上測量力及透鏡自身重量等因素影響，極易造成被測透鏡表面劃痕等缺陷，尤其是大口徑光學元件。非接觸...
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