技術(shù)編號：11955588
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明一般地涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，更具體地涉及半導(dǎo)體制造工藝。背景技術(shù)半導(dǎo)體制造方法通常使用多種類型的蝕刻工藝。一種類型的蝕刻工藝是干蝕刻工藝。干蝕刻工藝使用來自反應(yīng)氣體的離子轟擊，以從暴露的表面去除材料。另一種類型的蝕刻工藝是濕蝕刻工藝。濕蝕刻工藝使用化學(xué)溶液去除暴露的材料。通常用于在半導(dǎo)體制造方法的另一種工藝是摻雜工藝。摻雜工藝包括將摻雜劑注入半導(dǎo)體材料中，以改變半導(dǎo)體材料的電氣特性。執(zhí)行摻雜工藝的一種方法是在襯底上沉積摻雜氧化物的薄層。摻雜氧化物包括預(yù)期類型的摻雜劑。然后，執(zhí)行退火工藝使摻雜...
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