技術(shù)編號(hào)：11948012
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及圖像處理領(lǐng)域，尤其涉及一種用于光刻版圖OPC的采樣方法及裝置。背景技術(shù)隨著集成電路的集成度越高，其制造技術(shù)在不斷向更小特征尺寸發(fā)展。然而光刻制程成為了限制集成電路向更小特征尺寸制作發(fā)展的主要瓶頸。光刻制程主要的原理是通過(guò)光源將光罩上集成電路的設(shè)計(jì)版圖投影在晶圓上。然而隨著特征尺寸的減小，晶圓上投射的影像呈現(xiàn)的光學(xué)上的扭曲以及異常形狀使得投影出的小特征尺寸圖案的特征尺寸(CriticalDimension，CD)難以達(dá)到預(yù)期要求，從而影響整個(gè)光刻制程的成品率。光學(xué)鄰近效應(yīng)修正(Optic...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。